Magni tal-kisi tal-metallizzar

Il-benefiċċji kollha tal-proċess tal-kisi PVD li jipproduċu wħud mill-aktar teknoloġija iebsa, brillanti u avvanzata ta 'żmienna li jvarjaw minn mikroċipep għal pannelli solari, l-ebda wieħed huwa aktar importanti mill-fatt li l-kisi PVD jista' jiġi applikat mingħajr residwi tossiċi jew prodotti sekondarji. li jiddegradaw l-ambjent tal-pjaneta tagħna.

Inġenji tal-magna tal-kisi tal-metallizzanti

Kunċett tal-proċess tal-kisi sputter

L-hekk imsejjaħ kisi sputtering jirreferi għall-bumbardament tal-mira b'partiċelli enerġetiċi (tali joni pożittivi) f'kamra tal-vakwu, sabiex l-atomi jew il-gruppi atomiċi fuq il-wiċċ tal-mira jaħarbu, u l-atomi maħruba jiffurmaw film fuq il-wiċċ ta ' il-biċċa tax-xogħol bl-istess kompożizzjoni bħall-mira. , dan il-metodu ta 'preparazzjoni ta' films irqaq jissejjaħ sputtering. Fil-preżent, sputtering jintuża prinċipalment biex jifforma films irqaq tal-metall jew liga, speċjalment biex isiru elettrodi ta 'komponenti elettroniċi u films li jirriflettu infra-aħmar fuq uċuħ tal-ħġieġ. Barra minn hekk, sputtering jintuża wkoll biex jipprepara films irqaq funzjonali, bħal films irqaq taċ-ċeramika konduttivi trasparenti In2O3-SnO2 għal apparati tal-wiri tal-kristalli likwidi.

Hemm żewġ modi ta 'kisi sputtering: wieħed jissejjaħ sputtering tar-raġġ tal-jone, li jirreferi għall-bombarding tal-wiċċ fil-mira b'raġġ tal-jone fi stat vakwu, sabiex il-partiċelli sputtered jiffurmaw film fuq il-wiċċ tas-sottostrat. Dan il-proċess huwa relattivament għali u huwa prinċipalment użat biex jipprepara Theother speċjali jissejjaħ cathode sputtering, li prinċipalment juża l-fenomenu ta 'ħruġ ta' gass bi pressjoni baxxa, sabiex il-joni fl-istat tal-plażma jibbumbardjaw il-wiċċ fil-mira, u l-partiċelli sputtered huma depożitati fuq is-sottostrat.Jadotta struttura ta 'elettrodu ta' pjanċa parallela, mira ta 'żona kbira magħmula minn materjal tal-membrana hija katodu, u sottostrat li jsostni l-bażi huwa anodu, li huwa installat f'kontenitur tal-vakwu tat-tip qampiena. Sabiex tnaqqas it-tniġġis, il-pressjoni fil-vażett tal-qanpiena kienet l-ewwel ippumpjata għal inqas minn 10-3~10-4Pa, u mbagħad mimlija b'Ar biex tinżamm il-pressjoni f'1 ~ 10Pa. Vultaġġ ta 'bosta eluf ta' volt huwa applikat bejn iż-żewġ elettrodi għall-kisi sputter.

Meta mqabbel ma 'kisi ta' evaporazzjoni, il-materjal fil-mira (materjal tal-film) m'għandu l-ebda fażi changeduring kisi sputtering, il-kompożizzjoni kompost hija stabbli, u l-liga mhix faċli biex tikfrazzjona, għalhekk il-materjal tal-film adattat għall-preparazzjoni huwa wiesa 'ħafna. Peress li l-enerġija tal-partiċelli depożitati fuq is-substrateby sputtering hija 50 darba ogħla minn dik tal-evaporazzjoni, għandhom l-effett li jnaddfu u jsaħħnu s-sottostrat, għalhekk il-film iffurmat għandu adeżjoni qawwija. B'mod partikolari, kisi sputtering huwa faċli biex tikkontrolla l-kompożizzjoni tal-film. Permezz ta 'sputtering dirett jew sputtering reattiv, jistgħu jiġu ppreparati diversi films ta' liga, films komposti, films b'ħafna saffi u films komposti b'żoni kbar u uniformi. Kisi sputtering huwa faċli biex realizzatacontinuous, operazzjoni awtomatizzata u produzzjoni fuq skala kbira. Madankollu, minħabba l-użu ta 'vultaġġ għoli u gass waqt sputtering, l-apparat huwa relattivament ikkumplikat, il-film irqiq huwa faċilment affettwat mill-atmosfera ta' sputtering, u r-rata ta 'depożizzjoni ta' film irqiq hija wkoll baxxa. Barra minn hekk, sputtering kisi jeħtieġ li jipprepara miri ta ' komponenti varji bil-quddiem, li huwa inkonvenjenti biex jgħabbi u jħottu l-mira, u r-rata ta ' l-utilizzazzjoni ta ' thetarget mhix għolja wisq.

Parametru

Applikazzjoni

Kumpanija tagħna

It-tags Popolari: magna tal-kisi tal-metallizzar, iċ-Ċina, fornituri, manifatturi, fabbrika, personalizzati, jixtru, prezz, kwotazzjoni