Introduzzjoni tat-Teknoloġija tal-kisi tal-evaporazzjoni bil-vakwu

It-teknoloġija tal-kisi tal-evaporazzjoni bil-vakwu tal-manifatturi tal-magni tal-kisi tal-vakwu tinkludi kisi tal-evaporazzjoni tar-reżistenza, kisi tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni, kisi tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-lejżer, kisi tal-evaporazzjoni tat-tisħin tal-induzzjoni ta 'frekwenza għolja, eċċ It-tabella li ġejja telenka l-karatteristiċi ta' diversi teknoloġiji ta 'kisi evaporattiv.

1. Kisi tal-evaporazzjoni tar-reżistenza: Is-sors tal-evaporazzjoni tar-reżistenza jintuża biex jevapora materjali b'punt ta 'tidwib baxx, bħal deheb, fidda, sulfide taż-żingu, fluworidu tal-manjeżju, triossidu tal-kromju, eċċ Sorsi ta' evaporazzjoni tar-reżistenza huma ġeneralment magħmula minn tungstenu, molibdenu u tantalu.

2. Kisi tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni: Wara li l-materjal tal-film jiġi vaporizzat u evaporat bit-tisħin tar-raġġ tal-elettroni, huwa metodu ta 'tisħin importanti fit-teknoloġija tal-evaporazzjoni bil-vakwu biex jikkondensa u jifforma film fuq il-wiċċ tas-sottostrat. Hemm ħafna tipi ta 'apparat bħal dan. Bl-applikazzjoni wiesgħa tat-teknoloġija tal-film irqiq, mhux biss ir-rekwiżiti għat-tipi ta 'membrani huma varji, iżda wkoll ir-rekwiżiti għall-kwalità tal-membrani huma aktar stretti. L-evaporazzjoni tar-reżistenza ma tistax tissodisfa aktar il-ħtiġijiet ta 'evaporazzjoni ta' xi metalli u mhux metalli. Is-sors tas-sħana tar-raġġ tal-elettroni jista 'jikseb densità ta' enerġija ferm akbar mis-sors tas-sħana tar-reżistenza, u l-valur jista 'jilħaq 104-109w/cm2, sabiex il-film jista' jissaħħan għal 3000-6000ċ. Dan jipprovdi sors ta 'sħana aħjar għall-evaporazzjoni ta' metalli refrattorji u materjali mhux metalliċi bħal tungstenu, molibdenu, ġermanju, SiO2, AI2O3, eċċ Barra minn hekk, peress li l-materjal li għandu jiġi evaporat jitqiegħed fi griġjol imkessaħ bl-ilma, l-evaporazzjoni tal- materjal tal-kontenitur u r-reazzjoni bejn il-materjal tal-kontenitur u l-materjal tal-film jistgħu jiġu evitati, li huwa estremament importanti għat-titjib tal-purità tal-film. Barra minn hekk, is-sħana tista 'tiġi miżjuda direttament mal-wiċċ tal-materjal tal-film, għalhekk l-effiċjenza termali hija għolja, u l-konduzzjoni tas-sħana u t-telf tar-radjazzjoni tas-sħana huma żgħar.

3. Kisi tal-evaporazzjoni tat-tisħin tal-induzzjoni bi frekwenza għolja: Il-metall jissaħħan għat-temperatura tal-evaporazzjoni bl-użu tal-prinċipju tat-tisħin tal-induzzjoni. Poġġi l-griġjol li jkun fih il-materjal tal-film fiċ-ċentru tal-coil spirali (mingħajr kuntatt), u jgħaddi kurrent ta 'frekwenza għolja mill-coil, li jista' jagħmel il-materjal tal-film tal-metall jiġġenera kurrent biex jisħon lilu nnifsu sakemm jevapora.

Il-karatteristiċi tas-sors ta 'evaporazzjoni tat-tisħin bl-induzzjoni: 1) Ir-rata ta' evaporazzjoni hija kbira 2) It-temperatura tas-sors ta 'evaporazzjoni hija uniformi u stabbli, u mhux faċli li tipproduċi fenomenu ta' titjir ta 'qatra tal-aluminju 3) Is-sors ta' evaporazzjoni huwa ċċarġjat f'ħin wieħed , l-ebda mekkaniżmu ta 'tmigħ tal-wajer huwa meħtieġ, il-kontroll tat-temperatura huwa relattivament faċli, u l-operazzjoni hija sempliċi 4) Għall-film Ir-rekwiżiti tal-purità tal-Materjal huma kemmxejn usa'.

4. Kisi tal-evaporazzjoni tat-tisħin tal-ark: Metodu ta 'tisħin simili għall-metodu tat-tisħin tar-raġġ tal-elettroni huwa l-metodu tat-tisħin tal-iskarigu tal-ark. Għandha wkoll il-karatteristiċi li tevita l-kontaminazzjoni ta 'materjali ta' tisħin tar-reżistenza jew materjali tal-griġjol, u t-temperatura tat-tisħin hija għolja, speċjalment adattata għall-evaporazzjoni ta 'metalli refrattorji, grafita, eċċ b'punt ta' tidwib għoli u ċerta konduttività. Fl-istess ħin, it-tagħmir użat f'dan il-metodu huwa aktar sempliċi minn dak tal-apparat tat-tisħin tar-raġġ tal-elettroni, għalhekk huwa mezz ta 'evaporazzjoni relattivament irħis.

5. Kisi tal-evaporazzjoni tar-raġġ tal-lejżer: Il-metodu tal-użu ta 'laser pulsat ta' densità ta 'qawwa għolja biex jevapora l-materjal biex jifforma film irqiq ġeneralment jissejjaħ evaporazzjoni tal-lejżer